•   光刻机,是芯片制造核心中的核心,光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤,耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上,这一过程通过光刻来实现,光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。芯片在生产中需要进行 20-30 次的光刻,耗时占到 IC 生产环节的 50%左右,占芯片生产成本的 1/3。

      上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内,邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化(东部)基地等多个国家级基地。公司成立于2002年,主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务,公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。

      上海微电子是国内光刻机龙头,承担多项国家重大科技专项和 02 专项光刻机科研任务,公司的前道制造光刻机最高已能实现 90nm 制程,刻机能满足各类先进封装工艺的需求。公司的封装光刻机已在国内外市场广泛销售,国内市占率达到 80%,全球市占率 40%。90nm 是光刻机的重要技术台阶,在功课 90nm 节点后,公司有望快速将产品延伸至 65nm、45nm 制程,实现国产半导体设备的巨大突破。

      基于先进的扫描光刻机平台技术,提供覆盖前道IC制造90nm节点以上大规模生产所需,包含90nm、130nm和280nm等不同分辨率节点要求的ArF、KrF及i-line步进扫描投影光刻机。该系列光刻机可兼容200mm和300mm硅片。

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    2019-11-28 07:10
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